半導(dǎo)體用臭氧(yǎng)水去除有(yǒu)機物質(zhì)臭氧濃度需要達到多少

半導體用臭氧水去除有機物質臭氧(yǎng)濃度需要達到多少

使用臭氧水(shuǐ)可(kě)去(qù)除的物質以及所需臭氧的濃度

利用臭氧的強氧(yǎng)化能力(lì),可以實現分(fèn)解並去除大量的雜(zá)質。

根據雜(zá)質的形狀與數量的不同,所需(xū)濃度也將(jiāng)有(yǒu)所變化,請參考下(xià)圖數(shù)據。

此外,如將稀氫氟酸與(yǔ)臭氧水同(tóng)時使用,去除雜質的效果將倍增。


標簽(qiān):臭(chòu)氧濃度 臭氧水 半導體 有機物質


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